स्पटरिंग टारगेट

स्पटरिंग टारगेट्स का बाजार: अपनी सामग्री विज्ञान को बढ़ावा दें


क्या आप नवीनतम सामग्री विज्ञान में रुचि रखते हैं? क्या आप ऐसी विशिष्ट पदार्थ बनाना चाहते हैं जो लोगों के जीवन को सुधार सकती हैं? यदि हां, तो आपको स्पटरिंग टारगेट्स के बारे में अधिक जानना चाहिए, जो कई सामग्री विज्ञान कंपनियों द्वारा विश्वभर में प्रदान की जाने वाली मुख्य सेवाओं में से एक है, तथा TMC METAL के उत्पाद के साथ। टंगस्टन घन 1 किलो स्पटरिंग टारगेट्स किसी भी सामग्री पर पतले फिल्म के निर्माण में महत्वपूर्ण घटक हैं। एक स्पटरिंग टारगेट का उपयोग करके, आप एक दिए गए तत्व की परतें सब्सट्रेट पर उतार सकते हैं, जिससे आपके अनुप्रयोगों के लिए आदर्श रूप से योग्य विशेष गुणों वाले नए उत्पाद बनते हैं।

स्पटरिंग टारगेट क्या हैं और वे कैसे काम करते हैं?

स्पटरिंग टारगेट धातु तत्वों, धातुयुक्त मिश्रणों या केरेमिक यौगिकों से बने विशेष उपकरण होते हैं, जो समान हैं हैफ्नियम कण tMC METAL द्वारा। उनका उपयोग एक प्रक्रिया के दौरान स्पटरिंग कहलाती है, जिसमें भापीकृत सामग्री को एक अन्य सतह पर डालने के लिए स्रोत के रूप में किया जाता है। स्पटरिंग एक भौतिक भापीकरण जमाव (PVD) तकनीक है, जिसमें आयनों को प्लाज़्मा से त्वरित किया जाता है और ठोस लक्ष्य से टकराता है, जिससे लक्ष्य सामग्री से परमाणु बाहर निकल जाते हैं। इन परमाणुओं को फिर एक सब्सट्रेट पर जमा दिया जाता है, जहाँ वे एक पतली फिल्म बनाते हैं।


स्पटरिंग लक्ष्यों का उपयोग उपकरणों के विस्तृत श्रृंखला में किया जाता है, जैसे इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों, सौर पैनल, अप्रतिबिंबी ढक्कन, सजावटी ढक्कन, और कड़ी ढक्कन में। उनके विविध उपयोगों के कारण, स्पटरिंग लक्ष्यों कई फायदे हैं, जैसे कि अच्छी चिपचिपी, घनी, और अनुकूलनशील फिल्म बनाने की क्षमता, उत्तम चिपचिपी, उच्च शुद्धता, और सूक्ष्म-संरचना के साथ अधिक अच्छी चिपचिपी।

Why choose TMC METAL स्पटरिंग टारगेट?

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