Magas szintű Zirkónium légyszervizsgálati cél Magas Szintű 3N Zirkónium Sputtering Cél

TMC METAL

Magas Tisztaságú 3N Zirkónium Szputálási Célképet kínálunk, amelyet Önnek megbízható márkánk érdekében ajánlunk.

Pontossággal fejlesztették ki, és tökéletesen alkalmas különböző szputálási eljárásokra és rétegekhez. A magasabb tisztasági szintje 99,95%-os tisztaságot mutat, amely biztosítja a helyes és megbízható sedimentációs folyamatot.

Felső minőségű anyagokból készült, és nagy mennyiségű technikával forgatták, ezért erős a célkép. Kiváló hővezetéssel TMC METAL biztosítja a megbízható hőelengedést, és a csökkenett szputálási költségek garantálják, hogy a komponens-hulladék minimális.

Funkcionális és alkalmas különféle elektronikai eszközök, egészségügyi eszközök és repülőipari alkalmazásokhoz. Gyakran használnak vékony filmet gyártani, például oxid- és nitridfilmeket, valamint vezetékes és tükröző rétegek napelemekhez.

Csapatunk érzi a megbízható és folytonos termékek jelentőségét. Ezért biztosítjuk, hogy magas szintű 3N Zirkónium Szputer Céljainkat szigorú minőségbiztosítási eljárások alatt készítjük. Mindegyiket kiterjedelem teszteljük és ellenőrizünk, mielőtt elhagynánk területünket, így biztosítva, hogy az összes ipari követelménynek megfeleljen.  

Ezenkívül egy széles körű választékot kínálunk, amely kielégíti ügyfeleinink igényeit. Szakértőinek csapata lehetőleg együttműködhet veled egyéni célok elkészítéséhez, amelyek illeszkednek saját különleges igényeidhez.

A TMC METAL-től érkező High Purity 3N Zirkónium Szputálási Cél egy megbízható és első osztályú termék, amely könnyen növeli az effektivitást és megbízhatóságot a feldolgozó eljárásaidban és a szputálás során. A magas szerveség mennyisége, kiváló hővezetéke és alkalmazkodhatósága miatt ez egy olyan beruházás, amely gazdaságosabb költségek és nagyobb hatékonyság formájában visszatér. Lépjen kapcsolatba velünk ma, hogy többet megtudjon arról, hogyan segíthet a High Purity 3N Zirkónium Szputálási Cél a vállalatod fejlődésében.