Sasaran tergagap Indonesia

Target Sputtering Pemasaran: Meningkatkan Ilmu Material Anda


Apakah Anda tertarik dengan ilmu material mutakhir? Ingin membuat zat unik yang dapat meningkatkan taraf hidup masyarakat? Jika ya, maka Anda perlu mempelajari lebih lanjut tentang target sputtering, layanan utama yang disediakan oleh banyak perusahaan ilmu material di seluruh dunia, bersama dengan produk TMC METAL. kubus tungsten 1kg. Target sputtering merupakan komponen penting dalam pembuatan film tipis pada berbagai bahan. Dengan menggunakan target sputtering, Anda dapat menghasilkan lapisan elemen tertentu pada substrat, sehingga menciptakan produk baru dengan sifat unik yang sesuai untuk aplikasi Anda.

Apa Sasaran Sputtering dan Bagaimana Cara Kerjanya?

Target sputtering adalah bahan khusus yang terbuat dari unsur logam, paduan, atau senyawa keramik, sama seperti Partikel hafnium oleh TMC LOGAM. Mereka digunakan sebagai sumber bahan yang menguap yang dapat diendapkan ke permukaan lain selama proses yang disebut sputtering. Sputtering adalah teknik deposisi uap fisik (PVD) di mana ion-ion dipercepat dari plasma dan bertabrakan dengan target padat, sehingga atom terlempar keluar dari bahan target. Atom-atom ini kemudian diendapkan ke substrat, di mana mereka membentuk lapisan tipis. 


Target sputtering digunakan dalam berbagai aplikasi dalam industri ilmu material, seperti pada perangkat elektronik, panel surya, pelapis anti-reflektif, pelapis dekoratif, dan pelapis keras. Untuk beragam kegunaannya, target sputtering memiliki banyak keunggulan, seperti mampu menghasilkan film yang sangat seragam, padat, dan konformal dengan daya rekat sangat baik, kemurnian tinggi, dan struktur mikro berbutir halus.

Mengapa memilih target Sputtering LOGAM TMC?

Kategori produk terkait

Tidak menemukan apa yang Anda cari?
Hubungi konsultan kami untuk lebih banyak produk yang tersedia.

Minta Penawaran Sekarang

Hubungi kami