Target Sputtering

Pemasaran Target Sputtering: Meningkatkan Ilmu Material Anda


Apakah Anda tertarik pada ilmu material terdepan? Apakah Anda ingin membuat zat unik yang dapat meningkatkan kehidupan orang? Jika iya, maka Anda perlu mempelajari lebih lanjut tentang target sputtering, layanan kunci yang disediakan oleh banyak perusahaan ilmu material di seluruh dunia, bersama dengan produk TMC METAL kubus wolfram 1kg . Target sputtering merupakan komponen penting dalam pembuatan film tipis pada berbagai bahan. Dengan menggunakan target sputtering, Anda dapat menghasilkan lapisan dari elemen tertentu pada substrat, menciptakan produk baru dengan sifat unik yang sangat cocok untuk aplikasi Anda.

Apa Itu Target Sputtering dan Bagaimana Mekanisme Kerjanya?

Target sputtering adalah material khusus yang terbuat dari elemen logam, paduan, atau senyawa keramik, yang sama dengan Partikel hafnium oleh TMC METAL. Mereka digunakan sebagai sumber bahan yang diuapkan yang dapat disimpan ke permukaan lain selama proses yang disebut penyemprotan (sputtering). Penyemprotan adalah teknik deposisi uap fisik (PVD) di mana ion dipercepat dari plasma dan bertabrakan dengan target padat, mengetuk atom keluar dari bahan target. Atom-atom ini kemudian disimpan ke substrat, di mana mereka membentuk lapisan tipis.


Target penyemprotan digunakan dalam berbagai aplikasi di industri ilmu bahan, seperti pada perangkat elektronik, panel surya, pelapis anti-pantul, pelapis dekoratif, dan pelapis keras. Karena penggunaannya yang beragam, target penyemprotan memiliki banyak keunggulan, seperti mampu menghasilkan film yang sangat seragam, rapat, dan sesuai dengan adhesi yang sangat baik, keausan tinggi, dan mikrostruktur butiran halus.

Why choose TMC METAL Target Sputtering?

Kategori produk terkait

Tidak menemukan yang Anda cari?
Hubungi konsultan kami untuk mengetahui lebih banyak produk yang tersedia.

Minta Penawaran Sekarang

HUBUNGI KAMI