Høy renhet Zirkonium legering mål Høy renhet 3N Zirkonium Sputtering Target Norge

TMC METALL

Tilbyr High Purity 3N Zirconium Sputtering Target, tilbudt deg på grunn av den pålitelige etiketten.

Utviklet sammen med presisjon og er best for bruk i ulike sputterbehandlinger og lag. Dens egen renhet er akselerert grader med en renhet på 99.95%, garanterer at avsetningsmetoden er korrekt og pålitelig.

Laget sammen med førsteklasses produkter og laget sammen med strategier for mye høyere beløp, er dette ment solid. Sin egen ekstraordinære termikkTMC METALL ledningsevne tillater pålitelig varmespredning, og dens egne reduserte sputteringskostnader garanterer at komponentavfallet er marginalt.

Funksjonell og egnet for bruk i et bredt utvalg, med elektroniske enheter, helsevesen verktøy og romfart. Det brukes ofte til produksjon av slanke filmer, som for eksempel oksider og nitridfilmer, i tillegg når det involverer avsetning av ledende og reflekterende lag.

Teamet vårt anerkjenner relevansen av det pålitelige og produktene er konstante. er grunnen til at teamet vårt er sikre på at vårt High Purity 3N Zirconium Sputtering Target er laget under strenge kvalitetssikringsprosedyrer. Hver tiltenkt blir grundig undersøkt og kontrollert før vi forlater stedet vårt, noe som garanterer at det tilfredsstiller alle forretningsbehov. 

Teamet vårt bruker i tillegg en rekke valgmuligheter for å tilfredsstille behovene til kundene våre. Vårt team av eksperter kan enkelt muligens samarbeide med deg for å generere en tiltenkt er tilpasset til dine spesielle behov.

High Purity 3N Zirconium Sputtering Target fra TMC METAL er et pålitelig og førsteklasses element som enkelt kan styrke effektiviteten og påliteligheten til etterbehandlingsmetoder og sputtering. Sammen med sin egen høye renhetsmengde, enestående varmeledningsevne og tilpasningsevne, er det en økonomisk investering som vil betale tilbake i økte priskostnader økonomiske besparelser og effektivitet. Ring selskapet vårt i dag for å lese mer om hvordan High Purity 3N Zirconium Sputtering Target enkelt kan oppnå din organisasjon.