Høy renskap Zirkonium legeringsmål 3N Zirkonium Sputtering Target

TMC METAL

Tilbyr High Purity 3N Zirkonium Sputtering Target, tilbudt deg på grunn av den pålitelige merket.

Utviklet sammen med nøyaktighet og er best egnet for å brukes i ulike sputteringsbehandlinger og lag. Dets egen renhet er forhøyet grad viser en renhet på 99,95%, garanterer at depositionsprosessen er korrekt og pålitelig.

Laget sammen med toppklasse materialer og produsert sammen med høyere mengde metoder, dette formål er robust. Dets ekstraordinære termiske TMC METAL varmeledning tillater pålitelig varmeavledning, og dets lav sputteringskostnad garanterer at komponentforbruk er minimal.

Funksjonell og passende for bruk i en bred variete, som omfatter elektroniske enheter, helsepleieverktyer og luft- og romfart. Det brukes ofte til produksjon av tynn filmer, for eksempel oksid- og nitridfilmer, og også når det gjelder avlaging av lederlige og reflekterende lag.

Vår gruppe forstår betydningen av pålitelige og konstante produkter. Derfor sørger vi for at vår High Purity 3N Zirkonium Sputtering Target lages under strikte kvalitetsikringstiltak. Hver er omfattende testet og sjekket før den forlater vårt lokasjon, for å sikre at den oppfyller alle industrikrav.  

Vi tilbyr også en bred vifte av valg for å oppfylle kravene til våre kunder. Vår gruppe av eksperter kan muligens samarbeide med deg for å lage en tilpasset design som passer dine unike behov.

High Purity 3N Zirkonium Sputtering Target fra TMC METAL er et pålitelig og fremragende produkt som kan forsterke effektiviteten og pålittigheten til dine avsluttende metoder og sputtering. Med sin høy grad av renhet, utmerket varmeledningsevne og tilpasningsdyktighet, er det en investering som vil gi besparelser i koster og forbedret ytelse. Ring oss idag for å få mer informasjon om hvordan High Purity 3N Zirkonium Sputtering Target kan forbedre din bedrift.