Hög renhets Zirkoniumlegeringstarget 3N Zirkoniumsputeringsmål

TMC METAL

Tillhandahåller High Purity 3N Zirconium Sputtering Target, erbjuder dig tack vare det pålitliga märket.

Utvecklad med precision och är perfekt för användning i olika sputteringsprocesser och lager. Dess renhet har förbättrats i grad och visar en renhet på 99,95%, vilket garanterar att försättningsmetoden är korrekt och pålitlig.

Tillverkad med högkvalitativa material och producerad med avancerade metoder, detta mål är hållbart. Dess utmärkta termiska TMC METAL ledningsförmåga möjliggör effektiv värmeavlägsning, och dess låga sputterkostnader säkerställer att komponentförbrukningen är minimal.

Funktionell och lämplig för användning i en bred variation av, med elektroniska enheter, hälsovårdsmaterial och rymdindustrin. Den används ofta för produktionen av tunna filmer, som till exempel oxid- och nitridfilmer, och även när det gäller nedslagning av ledande och speglade lager.

Vår grupp förstår betydelsen av pålitliga och konstanta produkter. Därför ser vi till att vår High Purity 3N Zirconium Sputtering Target tillverkas under strikta kvalitetskontrollprocedurer. Varje enhet testas omfattande och undersöks innan den lämnar vårt företag, vilket säkerställer att den uppfyller alla branschkrav.  

Vi erbjuder också en bred array av alternativ för att uppfylla våra kunders behov. Vår expertgrupp kan arbeta tillsammans med dig för att skapa en anpassad lösning som passar dina specifika krav.

High Purity 3N Zirkonium Sputtering Target från TMC METAL är ett pålitligt och högkvalitativt produkt som kan enkelt förstärka effektiviteten och tillförlitligheten hos dina slutmetoder och sputtering. Tillsammans med sin höga renhetsgrad, utmärkta termiska ledningsförmåga och anpassningsbarhet är det en investering som kommer att betala sig i förbättrade prisbesparingar och prestationer. Ring oss idag för att läsa mer om hur High Purity 3N Zirkonium Sputtering Target kan fördela din verksamhet.