Mục Tiêu Phun Tán

Marketing Mục Tiêu Phún Xạ: Nâng Tầm Khoa Học Vật Liệu Của Bạn


Bạn có quan tâm đến khoa học vật liệu tiên tiến không? Bạn có muốn tạo ra những chất liệu độc đáo có thể cải thiện cuộc sống của con người không? Nếu có, thì bạn cần tìm hiểu thêm về các mục tiêu phún xạ, một dịch vụ then chốt được cung cấp bởi nhiều công ty khoa học vật liệu trên toàn thế giới, cùng với sản phẩm của TMC METAL khối Wolfram 1kg . Các mục tiêu phún xạ là thành phần thiết yếu trong việc sản xuất các màng mỏng trên nhiều loại vật liệu khác nhau. Bằng cách sử dụng một mục tiêu phún xạ, bạn có thể tạo ra các lớp của một nguyên tố nhất định lên bề mặt nền, tạo ra các sản phẩm mới với các đặc tính độc đáo phù hợp lý tưởng cho ứng dụng của bạn.

Mục tiêu Phun Tán là gì và chúng hoạt động như thế nào?

Các mục tiêu phun xạ là những vật liệu chuyên dụng được làm từ các nguyên tố kim loại, hợp kim hoặc hợp chất gốm, giống như Các hạt Hafnium bởi TMC METAL. Chúng được sử dụng làm nguồn vật liệu bay hơi có thể được lắng đọng lên một bề mặt khác trong quá trình gọi là bắn phá (sputtering). Bắn phá là một kỹ thuật lắng đọng hơi vật lý (PVD) trong đó các ion được tăng tốc từ một plasma và va chạm với một mục tiêu rắn, làm bật các nguyên tử ra khỏi vật liệu mục tiêu. Các nguyên tử này sau đó được lắng đọng lên một bề mặt nền, nơi chúng tạo thành một lớp màng mỏng.


Các mục tiêu bắn phá được sử dụng trong nhiều ứng dụng khác nhau trong ngành khoa học vật liệu, chẳng hạn như trong thiết bị điện tử, tấm pin mặt trời, lớp phủ chống phản xạ, lớp phủ trang trí và lớp phủ cứng. Nhờ sự đa dạng trong việc sử dụng, các mục tiêu bắn phá có nhiều ưu điểm, chẳng hạn như có khả năng sản xuất các lớp phim rất đều, đặc và phù hợp với bề mặt nền với độ bám dính tuyệt vời, độ tinh khiết cao và cấu trúc vi hạt nhỏ.

Why choose TMC METAL Mục Tiêu Phun Tán?

Các loại sản phẩm liên quan

Không tìm thấy thứ anh đang tìm?
Liên hệ với các chuyên gia tư vấn của chúng tôi để biết thêm các sản phẩm có sẵn.

Yêu cầu báo giá ngay

Liên hệ