Mục tiêu phún xạ Việt Nam

Mục tiêu tiếp thị phún xạ: Thúc đẩy khoa học vật liệu của bạn


Bạn có quan tâm đến khoa học vật liệu tiên tiến? Bạn có muốn tạo ra những chất độc đáo có thể cải thiện cuộc sống của mọi người không? Nếu muốn thì bạn cần tìm hiểu thêm về mục tiêu phún xạ, một dịch vụ chính được cung cấp bởi nhiều công ty khoa học vật liệu trên thế giới, cùng với sản phẩm của TMC METAL khối vonfram 1kg. Mục tiêu phún xạ là thành phần thiết yếu trong sản xuất màng mỏng trên nhiều loại vật liệu. Bằng cách sử dụng mục tiêu phún xạ, bạn có thể tạo ra các lớp của một nguyên tố nhất định trên một chất nền, tạo ra các sản phẩm mới với các đặc tính độc đáo phù hợp lý tưởng cho ứng dụng của bạn.

Mục tiêu phún xạ là gì và chúng hoạt động như thế nào?

Mục tiêu phún xạ là vật liệu chuyên dụng được làm từ các nguyên tố kim loại, hợp kim hoặc hợp chất gốm, giống như Hạt hafini của TMC METAL. Chúng được sử dụng như một nguồn vật liệu bay hơi có thể lắng đọng trên bề mặt khác trong quá trình gọi là phún xạ. Phún xạ là một kỹ thuật lắng đọng hơi vật lý (PVD) trong đó các ion được gia tốc từ plasma và va chạm với mục tiêu rắn, đánh bật các nguyên tử ra khỏi vật liệu mục tiêu. Những nguyên tử này sau đó được lắng đọng trên chất nền, nơi chúng tạo thành một màng mỏng. 


Mục tiêu phún xạ được sử dụng trong nhiều ứng dụng trong ngành khoa học vật liệu, chẳng hạn như trong các thiết bị điện tử, tấm pin mặt trời, lớp phủ chống phản chiếu, lớp phủ trang trí và lớp phủ cứng. Đối với các mục đích sử dụng đa dạng, mục tiêu phún xạ có nhiều ưu điểm, chẳng hạn như có thể tạo ra các màng có độ đồng đều cao, dày đặc và phù hợp với độ bám dính tuyệt vời, độ tinh khiết cao và cấu trúc vi hạt mịn.

Tại sao chọn mục tiêu phún xạ kim loại TMC?

Danh mục sản phẩm liên quan

Không tìm thấy những gì bạn đang tìm kiếm?
Liên hệ với chuyên viên tư vấn của chúng tôi để biết thêm các sản phẩm hiện có.

Yêu cầu báo giá ngay

Hãy liên lạc